拓荆科技(688072)2024年一季报深度解读：净利润同比大幅下降但现金流净额同比大幅增长
拓荆科技股份有限公司于2022年上市。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司主要产品为半导体薄膜沉积设备包括PECVD设备、ALD设备及SACVD设备三个系列。
根据拓荆科技2024年第一季度财报披露，2024年一季度，公司实现营收4.72亿元，同比增长17.25%。扣非净利润-4,420.93万元，由盈转亏。拓荆科技2024年第一季度净利润778.12万元，业绩同比大幅下降85.11%。本期经营活动产生的现金流净额为-7.21亿元，营收同比增长而经营活动产生的现金流净额同比大幅下降。
2023年公司的主营业务为半导体设备，其中薄膜沉积设备为第一大收入来源，占比95.02%。
2023年薄膜沉积设备营收25.70亿元，同比去年的16.85亿元大幅增长了52.51%。同期，2023年薄膜沉积设备毛利率为50.76%，同比去年的49.21%小幅增长了3.15%。
2023年，该产品名称由“PECVD设备、ALD设备、SACVD设备”，整合为“薄膜沉积设备”。
1、营业总收入同比增加17.25%，净利润同比大幅降低85.11%
2024年一季度，拓荆科技营业总收入为4.72亿元，去年同期为4.02亿元，同比增长17.25%，净利润为778.12万元，去年同期为5,225.32万元，同比大幅下降85.11%。
虽然（1）所得税费用本期收益1.98万元，去年同期支出2,080.82万元，同比大幅增长；（2）其他收益本期为5,865.31万元，去年同期为3,838.53万元，同比大幅增长。
但是主营业务利润本期为-3,624.67万元，去年同期为3,436.71万元，由盈转亏。
主要财务数据表
| |
本期报告 |
上年同期 |
同比增减 |
| 营业总收入 |
4.72亿元 |
4.02亿元 |
17.25% |
| 营业成本 |
2.49亿元 |
2.02亿元 |
23.02% |
| 销售费用 |
6,648.75万元 |
5,501.34万元 |
20.86% |
| 管理费用 |
2,907.55万元 |
3,323.08万元 |
-12.50% |
| 财务费用 |
837.96万元 |
-1,228.46万元 |
168.21% |
| 研发费用 |
1.53亿元 |
8,603.17万元 |
78.09% |
| 所得税费用 |
-1.98万元 |
2,080.82万元 |
-100.10% |
2024年一季度主营业务利润为-3,624.67万元，去年同期为3,436.71万元，由盈转亏。
虽然营业总收入本期为4.72亿元，同比增长17.25%，不过（1）研发费用本期为1.53亿元，同比大幅增长78.09%；（2）毛利率本期为47.31%，同比小幅下降了2.47%，导致主营业务利润由盈转亏。
拓荆科技2024年一季度非主营业务利润为4,400.81万元，去年同期为3,868.53万元，同比小幅增长。
非主营业务表
| |
金额 |
占净利润比例 |
去年同期 |
同比增减 |
| 主营业务利润 |
-3,624.67万元 |
-465.83% |
3,436.71万元 |
-205.47% |
| 投资收益 |
-202.79万元 |
-26.06% |
|
- |
| 公允价值变动收益 |
-349.82万元 |
-44.96% |
223.49万元 |
-256.53% |
| 资产减值损失 |
-168.88万元 |
-21.70% |
-220.06万元 |
23.26% |
| 其他收益 |
5,865.31万元 |
753.78% |
3,838.53万元 |
52.80% |
| 信用减值损失 |
-743.76万元 |
-95.58% |
25.17万元 |
-3055.13% |
| 其他 |
7,622.71元 |
0.10% |
2.30万元 |
-66.90% |
| 净利润 |
778.12万元 |
100.00% |
5,225.32万元 |
-85.11% |
截止到2025年6月20日，拓荆科技近十二个月的滚动营收为41亿元，在薄膜沉积设备行业中，拓荆科技的全球营收规模排名为8名，全国排名为3名。
薄膜沉积设备营收排名
| 公司 |
营收(亿元) |
营收增长率(%) |
净利润(亿元) |
净利润增长率(%) |
| Applied Materials 应用材料 |
1954 |
5.62 |
516 |
6.82 |
| Tokyo Electron 东京电子 |
1205 |
6.66 |
270 |
7.58 |
| Lam Research 泛林半导体 |
1072 |
0.63 |
275 |
-0.69 |
| 北方华创 |
298 |
45.52 |
56 |
73.44 |
| ASMI |
243 |
19.24 |
57 |
11.50 |
| 中微公司 |
91 |
42.88 |
16 |
16.90 |
| Kokusai Electric |
90 |
-14.16 |
11 |
-33.98 |
| 拓荆科技 |
41 |
75.59 |
6.88 |
115.79 |
| Wonik IPS |
39 |
-15.32 |
1.09 |
-47.71 |
| 微导纳米 |
27 |
84.78 |
2.27 |
70.04 |
注：营收和盈利数据为ttm（最近12个月），CAGR（年复合增速）依据过去三个财年进行计算，营收和盈利数据已统一转换为人民币。
拓荆科技属于半导体专用设备制造行业，核心业务聚焦于薄膜沉积设备研发与生产。 半导体设备行业近三年受国产替代政策驱动，市场规模年均复合增长率超15%，2024年国内市场规模突破200亿美元。未来随着先进制程工艺需求提升及第三代半导体材料应用扩展，薄膜沉积设备领域将加速技术迭代，预计2025年全球市场份额占比将提升至25%以上。
拓荆科技是国内薄膜沉积设备龙头，在化学气相沉积（CVD）领域市占率稳居国产厂商首位，2024年国内市场占有率约18%，覆盖14nm及以上逻辑芯片及先进存储芯片产线。
| 公司名（股票代码） |
简介 |
发展详情 |
| 拓荆科技（688072） |
国内薄膜沉积设备领军企业，产品覆盖PECVD、ALD等 |
2024年PECVD设备出货量占国内市场份额18%，14nm工艺验证完成 |
| 北方华创（002371） |
综合性半导体设备供应商，涵盖刻蚀、薄膜沉积等 |
2024年薄膜设备营收占比超30%，28nm设备进入量产阶段 |
| 中微公司（688012） |
等离子体刻蚀设备龙头，延伸至MOCVD设备领域 |
2025年刻蚀设备市占率国内第一，全球排名前五 |
| 芯源微（688037） |
涂胶显影设备细分领域领先，覆盖前道晶圆制造 |
2024年涂胶显影设备国产化率提升至40% |
| 盛美上海（688082） |
半导体清洗设备核心供应商，拓展电镀设备业务 |
2024年单片清洗设备出货量突破200台，28nm产线批量供货 |
