拓荆科技(688072)2024年三季报解读：净利润同比小幅下降但现金流净额同比增长
拓荆科技股份有限公司于2022年上市。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司主要产品为半导体薄膜沉积设备包括PECVD设备、ALD设备及SACVD设备三个系列。
根据拓荆科技2024年第三季度财报披露，2024年三季度，公司实现营收22.78亿元，同比大幅增长33.79%。扣非净利润6,548.50万元，同比大幅下降62.72%。拓荆科技2024年第三季度净利润2.60亿元，业绩同比小幅下降3.57%。
2023年公司的主营业务为半导体设备，其中薄膜沉积设备为第一大收入来源，占比95.02%。
2023年薄膜沉积设备营收25.70亿元，同比去年的16.85亿元大幅增长了52.51%。同期，2023年薄膜沉积设备毛利率为50.76%，同比去年的49.21%小幅增长了3.15%。
2023年，该产品名称由“PECVD设备、ALD设备、SACVD设备”，整合为“薄膜沉积设备”。
1、营业总收入同比大幅增加33.79%，净利润同比小幅降低3.57%
2024年三季度，拓荆科技营业总收入为22.78亿元，去年同期为17.02亿元，同比大幅增长33.79%，净利润为2.60亿元，去年同期为2.70亿元，同比小幅下降3.57%。
虽然公允价值变动收益本期为8,294.74万元，去年同期为-614.59万元，扭亏为盈；
但是主营业务利润本期为7,151.19万元，去年同期为1.89亿元，同比大幅下降。
主要财务数据表
| |
本期报告 |
上年同期 |
同比增减 |
| 营业总收入 |
22.78亿元 |
17.02亿元 |
33.79% |
| 营业成本 |
12.85亿元 |
8.45亿元 |
51.99% |
| 销售费用 |
2.68亿元 |
1.82亿元 |
46.60% |
| 管理费用 |
1.23亿元 |
1.30亿元 |
-5.13% |
| 财务费用 |
4,265.68万元 |
-1,347.15万元 |
416.64% |
| 研发费用 |
4.80亿元 |
3.54亿元 |
35.73% |
| 所得税费用 |
-592.02万元 |
-4.36万元 |
-13488.53% |
2024年三季度主营业务利润为7,151.19万元，去年同期为1.89亿元，同比大幅下降62.20%。
虽然营业总收入本期为22.78亿元，同比大幅增长33.79%，不过毛利率本期为43.59%，同比小幅下降了6.76%，导致主营业务利润同比大幅下降。
拓荆科技2024年三季度非主营业务利润为1.82亿元，去年同期为8,030.11万元，同比大幅增长。
非主营业务表
| |
金额 |
占净利润比例 |
去年同期 |
同比增减 |
| 主营业务利润 |
7,151.19万元 |
27.51% |
1.89亿元 |
-62.20% |
| 公允价值变动收益 |
8,294.74万元 |
31.91% |
-614.59万元 |
1449.65% |
| 其他收益 |
1.26亿元 |
48.40% |
1.02亿元 |
23.24% |
| 其他 |
-2,530.50万元 |
-9.74% |
-1,562.07万元 |
-62.00% |
| 净利润 |
2.60亿元 |
100.00% |
2.70亿元 |
-3.57% |
截止到2025年3月6日，拓荆科技近十二个月的滚动营收为27.0亿元，在薄膜沉积设备行业中，拓荆科技的全球营收规模排名为9名，全国排名为3名。
薄膜沉积设备营收排名
| 公司 |
营收(亿元) |
营收增长率(%) |
净利润(亿元) |
净利润增长率(%) |
| Applied Materials应用材料 |
1974.0 |
5.62 |
521 |
6.82 |
| LamResearch泛林半导体 |
1082.0 |
0.63 |
278 |
-0.69 |
| Tokyo Electron东京电子 |
894.0 |
9.37 |
178 |
14.42 |
| ASMI |
225.0 |
19.24 |
53 |
11.50 |
| 北方华创 |
221.0 |
53.91 |
39 |
93.65 |
| Kokusai Electric |
88.0 |
-14.16 |
11 |
-33.98 |
| 中微公司 |
63.0 |
40.19 |
18 |
53.66 |
| Wonik IPS |
34.0 |
-14.15 |
-0.67 |
-- |
| 拓荆科技 |
27.0 |
83.80 |
6.63 |
-- |
| 微导纳米 |
17.0 |
75.16 |
2.70 |
68.01 |
注：营收和盈利数据为ttm（最近12个月），CAGR（年复合增速）依据过去三个财年进行计算，营收和盈利数据已统一转换为人民币。
拓荆科技属于半导体专用设备制造行业，核心业务聚焦于薄膜沉积设备研发与生产。 半导体设备行业近三年受国产替代政策驱动，市场规模年均复合增长率超15%，2024年国内市场规模突破200亿美元。未来随着先进制程工艺需求提升及第三代半导体材料应用扩展，薄膜沉积设备领域将加速技术迭代，预计2025年全球市场份额占比将提升至25%以上。
拓荆科技是国内薄膜沉积设备龙头，在化学气相沉积（CVD）领域市占率稳居国产厂商首位，2024年国内市场占有率约18%，覆盖14nm及以上逻辑芯片及先进存储芯片产线。
| 公司名（股票代码） |
简介 |
发展详情 |
| 拓荆科技（688072） |
国内薄膜沉积设备领军企业，产品覆盖PECVD、ALD等 |
2024年PECVD设备出货量占国内市场份额18%，14nm工艺验证完成 |
| 北方华创（002371） |
综合性半导体设备供应商，涵盖刻蚀、薄膜沉积等 |
2024年薄膜设备营收占比超30%，28nm设备进入量产阶段 |
| 中微公司（688012） |
等离子体刻蚀设备龙头，延伸至MOCVD设备领域 |
2025年刻蚀设备市占率国内第一，全球排名前五 |
| 芯源微（688037） |
涂胶显影设备细分领域领先，覆盖前道晶圆制造 |
2024年涂胶显影设备国产化率提升至40% |
| 盛美上海（688082） |
半导体清洗设备核心供应商，拓展电镀设备业务 |
2024年单片清洗设备出货量突破200台，28nm产线批量供货 |
