拓荆科技(688072)2024年三季报解读：净利润同比小幅下降但现金流净额同比增长
拓荆科技股份有限公司于2022年上市。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司主要产品为半导体薄膜沉积设备包括PECVD设备、ALD设备及SACVD设备三个系列。
根据拓荆科技2024年第三季度财报披露，2024年三季度，公司实现营收22.78亿元，同比大幅增长33.79%。扣非净利润6,548.50万元，同比大幅下降62.72%。拓荆科技2024年第三季度净利润2.60亿元，业绩同比小幅下降3.57%。
营业收入情况
2023年公司的主营业务为半导体设备，其中薄膜沉积设备为第一大收入来源，占比95.02%。
1、薄膜沉积设备
2023年薄膜沉积设备营收25.70亿元，同比去年的16.85亿元大幅增长了52.51%。同期，2023年薄膜沉积设备毛利率为50.76%，同比去年的49.21%小幅增长了3.15%。
2023年，该产品名称由“PECVD设备、ALD设备、SACVD设备”，整合为“薄膜沉积设备”。
净利润同比小幅下降但现金流净额同比增长
1、营业总收入同比大幅增加33.79%，净利润同比小幅降低3.57%
2024年三季度，拓荆科技营业总收入为22.78亿元，去年同期为17.02亿元，同比大幅增长33.79%，净利润为2.60亿元，去年同期为2.70亿元，同比小幅下降3.57%。
净利润同比小幅下降的原因是：
虽然公允价值变动收益本期为8,294.74万元，去年同期为-614.59万元，扭亏为盈；
但是主营业务利润本期为7,151.19万元，去年同期为1.89亿元，同比大幅下降。
2、主营业务利润同比大幅下降62.20%
主要财务数据表
| 本期报告 | 上年同期 | 同比增减 | |
|---|---|---|---|
| 营业总收入 | 22.78亿元 | 17.02亿元 | 33.79% |
| 营业成本 | 12.85亿元 | 8.45亿元 | 51.99% |
| 销售费用 | 2.68亿元 | 1.82亿元 | 46.60% |
| 管理费用 | 1.23亿元 | 1.30亿元 | -5.13% |
| 财务费用 | 4,265.68万元 | -1,347.15万元 | 416.64% |
| 研发费用 | 4.80亿元 | 3.54亿元 | 35.73% |
| 所得税费用 | -592.02万元 | -4.36万元 | -13488.53% |
2024年三季度主营业务利润为7,151.19万元，去年同期为1.89亿元，同比大幅下降62.20%。
虽然营业总收入本期为22.78亿元，同比大幅增长33.79%，不过毛利率本期为43.59%，同比小幅下降了6.76%，导致主营业务利润同比大幅下降。
3、非主营业务利润同比大幅增长
拓荆科技2024年三季度非主营业务利润为1.82亿元，去年同期为8,030.11万元，同比大幅增长。
非主营业务表
| 金额 | 占净利润比例 | 去年同期 | 同比增减 | |
|---|---|---|---|---|
| 主营业务利润 | 7,151.19万元 | 27.51% | 1.89亿元 | -62.20% |
| 公允价值变动收益 | 8,294.74万元 | 31.91% | -614.59万元 | 1449.65% |
| 其他收益 | 1.26亿元 | 48.40% | 1.02亿元 | 23.24% |
| 其他 | -2,530.50万元 | -9.74% | -1,562.07万元 | -62.00% |
| 净利润 | 2.60亿元 | 100.00% | 2.70亿元 | -3.57% |
全球排名
截止到2025年3月6日，拓荆科技近十二个月的滚动营收为27.0亿元，在薄膜沉积设备行业中，拓荆科技的全球营收规模排名为9名，全国排名为3名。
薄膜沉积设备营收排名
| 公司 | 营收(亿元) | 营收增长率(%) | 净利润(亿元) | 净利润增长率(%) |
|---|---|---|---|---|
| Applied Materials应用材料 | 1974.0 | 5.62 | 521 | 6.82 |
| LamResearch泛林半导体 | 1082.0 | 0.63 | 278 | -0.69 |
| Tokyo Electron东京电子 | 894.0 | 9.37 | 178 | 14.42 |
| ASMI | 225.0 | 19.24 | 53 | 11.50 |
| 北方华创 | 221.0 | 53.91 | 39 | 93.65 |
| Kokusai Electric | 88.0 | -14.16 | 11 | -33.98 |
| 中微公司 | 63.0 | 40.19 | 18 | 53.66 |
| Wonik IPS | 34.0 | -14.15 | -0.67 | -- |
| 拓荆科技 | 27.0 | 83.80 | 6.63 | -- |
| 微导纳米 | 17.0 | 75.16 | 2.70 | 68.01 |
注：营收和盈利数据为ttm（最近12个月），CAGR（年复合增速）依据过去三个财年进行计算，营收和盈利数据已统一转换为人民币。
行业分析
1、行业发展趋势
拓荆科技属于半导体专用设备制造行业，核心业务聚焦于薄膜沉积设备研发与生产。 半导体设备行业近三年受国产替代政策驱动，市场规模年均复合增长率超15%，2024年国内市场规模突破200亿美元。未来随着先进制程工艺需求提升及第三代半导体材料应用扩展，薄膜沉积设备领域将加速技术迭代，预计2025年全球市场份额占比将提升至25%以上。
2、市场地位及占有率
拓荆科技是国内薄膜沉积设备龙头，在化学气相沉积（CVD）领域市占率稳居国产厂商首位，2024年国内市场占有率约18%，覆盖14nm及以上逻辑芯片及先进存储芯片产线。
3、主要竞争对手
| 公司名（股票代码） | 简介 | 发展详情 |
|---|---|---|
| 拓荆科技（688072） | 国内薄膜沉积设备领军企业，产品覆盖PECVD、ALD等 | 2024年PECVD设备出货量占国内市场份额18%，14nm工艺验证完成 |
| 北方华创（002371） | 综合性半导体设备供应商，涵盖刻蚀、薄膜沉积等 | 2024年薄膜设备营收占比超30%，28nm设备进入量产阶段 |
| 中微公司（688012） | 等离子体刻蚀设备龙头，延伸至MOCVD设备领域 | 2025年刻蚀设备市占率国内第一，全球排名前五 |
| 芯源微（688037） | 涂胶显影设备细分领域领先，覆盖前道晶圆制造 | 2024年涂胶显影设备国产化率提升至40% |
| 盛美上海（688082） | 半导体清洗设备核心供应商，拓展电镀设备业务 | 2024年单片清洗设备出货量突破200台，28nm产线批量供货 |
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