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拓荆科技(688072)2025年中报深度解读:主营业务利润由盈转亏导致净利润同比大幅下降

拓荆科技股份有限公司于2022年上市。公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司主要产品为半导体薄膜沉积设备包括PECVD设备、ALD设备及SACVD设备三个系列。

2025年半年度,公司实现营收19.54亿元,同比大幅增长54.25%。扣非净利润3,818.77万元,同比大幅增长91.35%。拓荆科技2025年半年度净利润8,235.02万元,业绩同比大幅下降32.69%。

PART 1
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主营业务利润由盈转亏导致净利润同比大幅下降

1、营业总收入同比大幅增加54.25%,净利润同比大幅降低32.69%

2025年半年度,拓荆科技营业总收入为19.54亿元,去年同期为12.67亿元,同比大幅增长54.25%,净利润为8,235.02万元,去年同期为1.22亿元,同比大幅下降32.69%。

净利润同比大幅下降的原因是:

虽然其他收益本期为1.33亿元,去年同期为1.08亿元,同比增长;

但是(1)主营业务利润本期为-483.62万元,去年同期为2,336.40万元,由盈转亏;(2)信用减值损失本期损失3,281.79万元,去年同期损失1,153.92万元,同比大幅增长;(3)资产减值损失本期损失1,914.34万元,去年同期损失186.90万元,同比大幅增长。

2、主营业务利润由盈转亏

主要财务数据表


本期报告 上年同期 同比增减
营业总收入 19.54亿元 12.67亿元 54.25%
营业成本 13.30亿元 7.19亿元 84.82%
销售费用 1.70亿元 1.11亿元 53.13%
管理费用 1.04亿元 6,660.77万元 56.26%
财务费用 4,757.96万元 2,718.91万元 75.00%
研发费用 3.01亿元 3.14亿元 -4.33%
所得税费用 -81.32万元 -321.81万元 74.73%

2025年半年度主营业务利润为-483.62万元,去年同期为2,336.40万元,由盈转亏。

虽然营业总收入本期为19.54亿元,同比大幅增长54.25%,不过毛利率本期为31.96%,同比下降了11.25%,导致主营业务利润由盈转亏。

3、非主营业务利润同比小幅下降

拓荆科技2025年半年度非主营业务利润为8,637.32万元,去年同期为9,575.66万元,同比小幅下降。

非主营业务表


金额 占净利润比例 去年同期 同比增减
主营业务利润 -483.62万元 -5.87% 2,336.40万元 -120.70%
资产减值损失 -1,914.34万元 -23.25% -186.90万元 -924.25%
其他收益 1.33亿元 161.80% 1.08亿元 23.77%
信用减值损失 -3,281.79万元 -39.85% -1,153.92万元 -184.40%
其他 531.48万元 6.45% 216.31万元 145.70%
净利润 8,235.02万元 100.00% 1.22亿元 -32.69%

4、净现金流由负转正

2025年半年度,拓荆科技净现金流为9.52亿元,去年同期为-4.45亿元,由负转正。

PART 2
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行业分析

1、行业发展趋势

拓荆科技属于半导体专用设备制造行业,核心业务聚焦于薄膜沉积设备研发与生产。 半导体设备行业近三年受国产替代政策驱动,市场规模年均复合增长率超15%,2024年国内市场规模突破200亿美元。未来随着先进制程工艺需求提升及第三代半导体材料应用扩展,薄膜沉积设备领域将加速技术迭代,预计2025年全球市场份额占比将提升至25%以上。

2、市场地位及占有率

拓荆科技是国内薄膜沉积设备龙头,在化学气相沉积(CVD)领域市占率稳居国产厂商首位,2024年国内市场占有率约18%,覆盖14nm及以上逻辑芯片及先进存储芯片产线。

3、主要竞争对手


公司名(股票代码) 简介 发展详情
拓荆科技(688072) 国内薄膜沉积设备领军企业,产品覆盖PECVD、ALD等 2024年PECVD设备出货量占国内市场份额18%,14nm工艺验证完成
北方华创(002371) 综合性半导体设备供应商,涵盖刻蚀、薄膜沉积等 2024年薄膜设备营收占比超30%,28nm设备进入量产阶段
中微公司(688012) 等离子体刻蚀设备龙头,延伸至MOCVD设备领域 2025年刻蚀设备市占率国内第一,全球排名前五
芯源微(688037) 涂胶显影设备细分领域领先,覆盖前道晶圆制造 2024年涂胶显影设备国产化率提升至40%
盛美上海(688082) 半导体清洗设备核心供应商,拓展电镀设备业务 2024年单片清洗设备出货量突破200台,28nm产线批量供货

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